पॉलीक्रिस्टलाइन फोटोवोल्टिक पैनल

पॉलीक्रिस्टलाइन फोटोवोल्टिक पैनल फोटोवोल्टिक मॉड्यूल की एक नई पीढ़ी है जो अनाकार सिलिकॉन पतली-फिल्म कोशिकाओं की अपेक्षाकृत सरलीकृत सामग्री निर्माण प्रक्रिया के साथ मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाओं की उच्च रूपांतरण दक्षता और लंबे जीवनकाल की विशेषताओं को जोड़ती है।

पॉलीक्रिस्टलाइन फोटोवोल्टिक पैनल पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन सिल्लियां बनाने के लिए कास्टिंग और दिशात्मक ठोसकरण विधियों द्वारा निर्मित होते हैं, जिन्हें बाद में पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन वेफर्स में काटा और पॉलिश किया जाता है। ये वेफर्स आगे की प्रक्रियाओं से गुजरते हैं जैसे सफाई, प्रसार, एंटी-रिफ्लेक्टिव फिल्मों का जमाव, इलेक्ट्रोड की स्क्रीन प्रिंटिंग और सिंटरिंग। पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन वेफर्स के निर्माण के लिए कास्टिंग विधि मोनोक्रिस्टल खींचने की प्रक्रिया की आवश्यकता से बचती है, इस प्रकार मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाओं की तुलना में कम ऊर्जा की खपत होती है। आकार प्रतिबंधित नहीं है और इसे चौकोर आकार में बनाया जा सकता है जो फोटोवोल्टिक मॉड्यूल की व्यवस्था को सुविधाजनक बनाता है। मोनोक्रिस्टल खींचने की प्रक्रिया की अनुपस्थिति के अलावा, मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाओं के निर्माण में उपयोग की जाने वाली परिपक्व प्रक्रियाओं को पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाओं के उत्पादन में लागू किया जा सकता है। पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाएं 18% तक की क्षमता प्राप्त कर सकती हैं, जो मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाओं के स्तर से थोड़ी कम है। यद्यपि पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाओं में मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाओं की तुलना में कुछ हद तक कम दक्षता होती है, वे ऊर्जा बचाते हैं, सिलिकॉन सामग्री का संरक्षण करते हैं, और दक्षता के साथ प्रक्रिया लागत को संतुलित करते हैं।

पॉलीक्रिस्टलाइन फोटोवोल्टिक पैनल जिनकी मॉड्यूल शक्ति 330~350W और मॉड्यूल दक्षता 17.0%~18.3% है।

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